
Стадия / шаг | Термический и химический процесс | Хроматографические и масс-спектрометрические последствия |
1. Программируемый температурный подъём | Температурная программа термостата проходит диапазон 220°C–260°C для элюирования высококипящих ЛОС и поздних фракций растворителя | Тепловая энергия создает напряжение в цианопропилфенилсилоксановой основе стандартных фаз 624 |
2. Расщепление полимерной основы | Следы кислорода в газе-носителе или непрореагировавшие силанолы катализируют радикально-опосредованное разрывление цепи | Полимер неподвижной фазы разлагается на летучие циклические силоксановые олигомеры |
3. Непрерывная отпарка в паровой фазе | Фрагменты отпаренной фазы непрерывно элюируются в зависимости от скорости температурного программирования | Крутой, ступенчатый подъём базовой линии на протяжении второй половины хроматограммы |
4. Интегрирование и спектральные искажения | Повышенный фон перегружает коллектор ПИД или источник ионизации МС | Сигнал/шум резко падает , пики низких концентраций галогенов маскируются, и показатели совпадения с библиотекой не проходят |
Рабочий параметр | Стандартные / обычные колонки 624 | Отраслевой эталон (DB-624 / Rtx-624) | Серия CHANCE-624 со сверхнизким уровнем фона |
Технология полимерного связывания | Стандартное сшивание в растворимой фазе | Связанный и сшитый сильфенилен | Передовое парофазное ковалентное сшивание 4-го поколения |
Плотность экранирования поверхностных силанольных групп | Стандартный базовый уровень | Высокая | +35% к плотности ковалентного поверхностного закрепления |
Максимальная изотермическая температура | 240°C | 260°C | 260°C (расширенная термическая стабильность) |
Максимальная температура программирования | 250°C – 260°C | 260°C | 280°C (окно высокотемпературной очистки) |
Скорость фона при 250°C (ПИД) | > 12 − 25 пА (сильный дрейф) | 4 − 7 пА | (Почти плоский базовый профиль) |
Ионы выщелачиваемой массы в ГХ-МС | Интенсивный м / з 207 , 281 , 355 кластеры | Умеренный м / з 207 | Ионы силоксана с почти нулевым фоном |
Время уравновешивания после прогрева | 45 – 90 мин после охлаждения | 20 – 30 мин | (Быстрая стабилизация базовой линии) |
Дрейф времени удерживания в серии (RSD) | > 0,10 мин после 150 циклов | < 0,05 мин | (Продленный срок удержания фазы) |
Свяжитесь с нами
Связывая инновации, используя тренды.
Подписываясь на нашу рассылку, вы соглашаетесь с нашими Условиями обслуживания и Политикой конфиденциальности.