Создано Сегодня

Устранение наклона базовой линии и высокого фазового кровотечения в ГХ-МС следовых галогенуглеродов и ЛОС

В экологическом тестировании (например, методы EPA 524.2, 624.1, 8260D) и профилировании остаточных растворителей в фармацевтике (USP <467>) обнаружение галогенированных углеводородов на следовом уровне — таких как хлороформ, бромоформ, четырёххлористый углерод и хлорбензолы — требует исключительной стабильности базовой линии. Широко распространённая проблема, с которой сталкиваются операторы ГХ и ГХ-МС, использующие обычные колонки типа 624 (6% цианопропилфенил / 94% диметилполисилоксан) или типа 5МС, — это ​сильный «ступенчатый» дрейф базовой линии, когда температура термостата превышает 220°C–240°C​. Эта термическая деградация маскирует низкокипящие или поздно элюирующиеся следовые целевые аналиты, искажает интегрирование пиков, ухудшает соотношение сигнал/шум (S/N) и вынуждает аналитиков выполнять повторяющиеся, отнимающие время циклы прокаливания колонки, что сокращает срок её службы.
Хроматограмма ГХ-МС, показывающая дрейф базовой линии в виде нарастания выше 220°C при анализе галогенированных ЛОС с колонками типа 624

Ключевые выводы

  • Причина дрейфа при температурном программировании:
  • Аналитический штраф:
  • Инженерное решение: сшитые парофазные привитые неподвижные фазы четвёртого поколения (CHANCE-624 Ultra-Low Bleed)35%10°C–15°Cпри 260°C

Высокотемпературный унос и механизм деградации фазы

Стадия / шаг
Термический и химический процесс
Хроматографические и масс-спектрометрические последствия
1. Программируемый температурный подъём
Температурная программа термостата проходит диапазон 220°C–260°C для элюирования высококипящих ЛОС и поздних фракций растворителя
Тепловая энергия создает напряжение в цианопропилфенилсилоксановой основе стандартных фаз 624
2. Расщепление полимерной основы
Следы кислорода в газе-носителе или непрореагировавшие силанолы катализируют радикально-опосредованное разрывление цепи
Полимер неподвижной фазы разлагается на летучие циклические силоксановые олигомеры
3. Непрерывная отпарка в паровой фазе
Фрагменты отпаренной фазы непрерывно элюируются в зависимости от скорости температурного программирования
Крутой, ступенчатый подъём базовой линии
на протяжении второй половины хроматограммы
4. Интегрирование и спектральные искажения
Повышенный фон перегружает коллектор ПИД или источник ионизации МС
​
Сигнал/шум резко падает
, пики низких концентраций галогенов маскируются, и показатели совпадения с библиотекой не проходят
Схема расщепления основной цепи силоксановой неподвижной фазы и механизма утечки циклических олигомеров, вызывающего нарастание базовой линии в ГХ

Технические характеристики: обычные колонки 624 против серии CHANCE-624 Ultra

Рабочий параметр
Стандартные / обычные колонки 624
Отраслевой эталон (DB-624 / Rtx-624)
Серия CHANCE-624 со сверхнизким уровнем фона
Технология полимерного связывания
Стандартное сшивание в растворимой фазе
Связанный и сшитый сильфенилен
Передовое парофазное ковалентное сшивание 4-го поколения
Плотность экранирования поверхностных силанольных групп
Стандартный базовый уровень
Высокая
+35% к плотности ковалентного поверхностного закрепления
Максимальная изотермическая температура
240°C
260°C
260°C (расширенная термическая стабильность)
Максимальная температура программирования
250°C – 260°C
260°C
280°C (окно высокотемпературной очистки)
Скорость фона при 250°C (ПИД)
>
12
−
25
пА
(сильный дрейф)
4
−
7
пА
​
(Почти плоский базовый профиль)
Ионы выщелачиваемой массы в ГХ-МС
Интенсивный
м
/
з
207
,
281
,
355
кластеры
Умеренный
м
/
з
207
​
Ионы силоксана с почти нулевым фоном
Время уравновешивания после прогрева
45 – 90 мин после охлаждения
20 – 30 мин
(Быстрая стабилизация базовой линии)
Дрейф времени удерживания в серии (RSD)
>
0,10
мин
после 150 циклов
<
0,05
мин
​
(Продленный срок удержания фазы)
Сравнение дрейфующей базовой линии на обычных колонках 624 с плоской сверхнизкофоновая базовая линия на колонках CHANCE-624 GC

4 лучших практики для предотвращения роста базовой линии в температурных программах анализа ЛОС

  1. Очищайте газ-носитель до уровня кислорода ниже ppm:
  2. Избегайте чрезмерных температур кондиционирования: 15 минут при температуре на 10°C выше конечной температуры вашего аналитического метода
  3. Периодически обрезайте головки колонок вместо повторной прокалки: от 0,2 м до 0,5 м
  4. Используйте специализированные архитектуры фаз со сверхнизким уровнем утечки:

Капиллярные колонки CHANCE-624 и CHANCE-5MS со сверхнизким уровнем утечки

Разработаны специально для лабораторий экологического контроля, фармацевтических отделов контроля качества и токсикологического скрининга:
  • Химическая сшивка паровой фазы 4-го поколения: 260°C / 280°C
  • Валидированная симметрия пиков на уровне следовых количеств:
  • Прямая замена OEM-компонентов без доработок:
руководство по выбору фазы и размеров" query="Предоставьте размеры колонки, спецификации фазового соотношения и хроматограммы разделения для летучих органических соединений и остаточных растворителей на CHANCE-624." />

Свяжитесь с нами

Связывая инновации, используя тренды.

Подписываясь на нашу рассылку, вы соглашаетесь с нашими Условиями обслуживания и Политикой конфиденциальности.

Контакты