
단계 / 스텝 | 열 및 화학 공정 | 크로마토그래피 및 MS 결과 |
1. 프로그램된 온도 램프 | 더 높은 비점의 VOC와 후기 용매 분획을 용출하기 위해 220°C–260°C 범위를 통과하는 오븐 온도 램프 | 열 에너지가 표준 624 상의 시아노프로필페닐 실록산 백본에 변형을 가함 |
2. 폴리머 백본 절단 | 미량의 캐리어 가스 산소 또는 비활성화되지 않은 실란올이 라디칼 매개 사슬 절단을 촉매함 | 고정상 폴리머가 휘발성 고리형 실록산 올리고머로 분해됨 |
3. 연속 기상 스트리핑 | 스트리핑된 상 조각들이 열 램프 속도의 함수로 연속적으로 용출됨 | 가파른, 램프 형태의 기준선 상승 실행 후반부에 걸쳐 |
4. 적분 및 스펙트럼 왜곡 | 상승된 배경이 FID 수집기 또는 MS 이온화 소스를 범람시킴 | S/N이 급격히 감소 , 저농도 할로겐화 피크가 가려지고, 라이브러리 매치 점수가 실패함 |
성능 파라미터 | 상용 / 기존 624 컬럼 | 업계 벤치마크 (DB-624 / Rtx-624) | CHANCE-624 초저 블리드 시리즈 |
폴리머 결합 기술 | 표준 용액상 가교 | 결합 및 가교 실페닐렌 | 4세대 고급 기상 공유 가교 |
표면 실란올 차폐 밀도 | 표준 기준선 | 높음 | +35% 공유 표면 고정 밀도 |
최대 등온 온도 | 240°C | 260°C | 260°C (확장된 열 안정성) |
최대 프로그램 온도 | 250°C – 260°C | 260°C | 280°C (고온 클리어런스 윈도우) |
250°C에서의 블리드 속도 (FID) | > 12 − 25 pA (심한 드리프트) | 4 − 7 pA | (평탄에 가까운 기준선 프로파일) |
GC-MS에서의 블리드 매스 이온 | 강함 m / z 207 , 281 , 355 클러스터 | 보통 m / z 207 | 거의 제로에 가까운 배경 실록산 이온 |
베이크아웃 후 평형화 시간 | 냉각 후 45 – 90분 | 20 – 30분 | (신속한 기준선 안정화) |
배치 머무름 시간 드리프트(RSD) | > 0.10 분 150회 사이클 후 | < 0.05 분 | (확장된 상 유지 수명) |